1 |
20231112-T-469
|
|
T
|
修订
|
50.50
|
2 |
20231108-T-469
|
|
T
|
修订
|
50.50
|
3 |
20231113-T-469
|
|
T
|
修订
|
50.50
|
4 |
20231115-T-469
|
|
T
|
修订
|
50.50
|
5 |
20233945-T-610
|
|
T
|
修订
|
50.14.06
|
6 |
20233951-T-610
|
|
T
|
修订
|
50.14.06
|
7 |
20231111-T-469
|
|
T
|
制定
|
50.14.06
|
8 |
20111476-Q-469
|
|
Q
|
制定
|
50.03
|
9 |
20240142-T-469
|
|
T
|
修订
|
40.20
|
10 |
20240143-T-469
|
|
T
|
修订
|
40.20
|
11 |
20240139-T-469
|
硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
|
T
|
修订
|
40.20
|
12 |
20241932-T-469
|
|
T
|
制定
|
30.20
|
13 |
20250729-T-469
|
碳化硅晶片表面杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
|
T
|
制定
|
20.20
|
14 |
20250822-T-469
|
|
T
|
制定
|
20.20
|
15 |
20250813-T-469
|
半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分:扇形区域平整度法(ESFQR、ESFQD、ESBIR)
|
T
|
制定
|
20.20
|
16 |
20250731-T-469
|
|
T
|
制定
|
20.20
|
17 |
20241934-T-469
|
|
T
|
修订
|
30.20
|
18 |
20250577-T-469
|
|
T
|
制定
|
20.20
|
19 |
20250575-T-469
|
|
T
|
制定
|
20.20
|
20 |
20250148-T-469
|
|
T
|
制定
|
20.20
|